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ZrO2 films deposited by spray pyrolysis from water-based precursor solutions on glass and TCO substrates
Ana Zrilic
Art der Arbeit
Diplomarbeit
Universität
Universität Wien
Fakultät
Fakultät für Chemie
Studiumsbezeichnung bzw. Universitätlehrgang (ULG)
Masterstudium Chemie und Technologie der Materialien
Betreuer*in
Alexander Bismarck
DOI
10.25365/thesis.73860
URN
urn:nbn:at:at-ubw:1-26944.75870.750372-6
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(Print-Exemplar eventuell in Bibliothek verfügbar)
Abstracts
Abstract
(Deutsch)
In dieser Arbeit wurde der Fokus darauf gelegt, ein besseres Verständnis über die Deposition stabiler ZrO2-Schichten auf transparenten leitfähigen Oxid-Substraten zu erlangen. Dafür wurden wasserbasierte Vorläuferlösungen mittels Sprühpyrolyse aufgetragen. Als Vorläufersalz wurde ZrOCl2 × 8H2O gewählt. Der Einfluss verschiedener Faktoren, die eine wichtige Rolle für den Sprühpyrolyseprozess spielen, wurde an drei Substraten untersucht: Borosilikatglas, fluordotiertes Zinnoxid (FTO) und zinndotiertes Indiumoxid (ITO). Die Konzentration der Vorläuferlösung wurde zwischen 25mM und 100mM variiert, um das Verhalten der ZrO2-Schichten auf den gewählten Substraten zu untersuchen. Die Sprüh-wiederholungen wurden zwischen 75 und 250 gewählt, um die Entwicklung der Kristallisation mit zunehmender ZrO2-Schichtdicke zu analysieren. Die Temperatur der Trägerplatte betrug 360°C bis 430°C, um die Auswirkungen auf den kristallinen Charakter der Schichten zu untersuchen. Die Kristallstruktur, die Morphologie und die Transmission der erhaltenen Schichten wurden mittels Rasterelektronenmikroskopie, Röntgenbeugung und Fourier-Transform-Spektroskopie untersucht. Aufgrund von Unzulänglichkeiten war es nur teilweise möglich, kristalline ZrO2-Schichten zu erhalten. Eine deutlich sichtbare Bildung von kubischem Zirkoniumdioxid konnte zwar auf allen Proben festgestellt werden, allerdings führte die Deposition unter den gewählten Bedingungen hauptsächlich zur Bildung von Tröpfchen. Eine weitere Optimierung des gewählten Prozesses und des Vorläufersalzes ist notwendig, um ein erfolgreiches Verfahren zur Herstellung einer homogenen Schicht zu erzielen. Diese könnte in weiteren Anwendungen wie Solarzellen oder optoelektronischen Produkten eingesetzt werden.
Abstract
(Englisch)
This thesis focuses on gaining a better understanding of depositing stable ZrO2 layers on transparent conducting oxide substrates while using spray pyrolysis from water-based precursor solutions. ZrOCl2×8H2O was chosen – out of curiosity – as the precursor salt for the process. The influence of a range of factors, that play an important role for the spray-pyrolysis process, were studied on three substrates: borosilicate glass, fluorine doped tin oxide (FTO) and tin doped indium oxide (ITO). The precursor concentration was varied between 25mM and 100mM to investigate the behaviour of the ZrO2 films on the chosen substrates. The scanning repetitions were varied between 75 and 250 to analyse the evolution of crystallisation as the ZrO2 thickness increased. The temperature of the heating surface was tested between 360°C and 430°C to see its impact on the crystallin character of the films. The crystal structure, morphology and transmission of the obtained layers were evaluated by scanning electron microscopy, X-ray diffraction and Fourier-transform spectroscopy. Due to shortcomings it was only partly possible to obtain crystallin ZrO2 films. Despite the clearly visible formation of cubic zirconium oxide on all samples, the morphological investigation indicates the impact of droplets in its major part, which is not ideal for a vapour phase dependant process. Further optimization of the chosen process and precursor salt is necessary to obtain a successful receipt in order to implement it in further applications such as solar cells or optoelectronic devices.
Schlagwörter
Schlagwörter
(Deutsch)
Sprühpyrolyse kubisches Zirkoniumdioxid c-ZrO2 ZrO2 ZrOCl2 × 8H2O ZrO2 Schicht fluordotiertes Zinnoxid zinndotiertes Indiumoxid FTO ITO
Schlagwörter
(Englisch)
spray pyrolysis cubic zirconium oxide c-ZrO2 ZrO2 ZrOCl2 × 8H2O ZrO2 film fluorine doped tin oxide FTO tin doped indium oxide ITO
Autor*innen
Ana Zrilic
Haupttitel (Englisch)
ZrO2 films deposited by spray pyrolysis from water-based precursor solutions on glass and TCO substrates
Publikationsjahr
2023
Umfangsangabe
54 Seiten : Illustrationen
Sprache
Englisch
Beurteiler*in
Alexander Bismarck
Klassifikationen
33 Physik > 33.68 Oberflächen. Dünne Schichten. Grenzflächen ,
35 Chemie > 35.90 Festkörperchemie
AC Nummer
AC16878511
Utheses ID
66435
Studienkennzahl
UA | 066 | 658 | |